亚博体育苹果版怎么下载半导体设备发展历程

Koyo thermosystems于1970年推出日本Tempress品牌的水平热处理系统,进入半导体制造设备市场。当时,该公司被称为Koyo Lindberg,从1967年7月到1999年10月,我们一直持有这个身份。自那以后,该公司提供了广泛的热处理技术,在日本半导体行业的增长和发展中发挥了作用。我们专注于开发以细线元件LGO加热器为驱动的立式热处理设备。其他例子包括灯退火设备和清洁烤箱系统。

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半导体集成电路的制造需要许多类型的设备来做广泛的工艺。例如,向半导体中添加微量杂质的掺杂设备,以及将电路图案烧到基片上的曝光设备(一种称为光刻的过程)。Koyo thermosystems通过制造用于氧化和沉积等工艺的热处理设备,为这种广泛的产品阵列做出了贡献。

业务方法

越来越多的利基市场

Koyo热系统公司专注于我们擅长的细分市场,并努力开发这些市场需求的新技术和设备。

直到1972年水平扩散炉

85000型水平扩散炉(完全在日本制造)在1972年完成。随着晶圆尺寸的不断增加,适用于8英寸晶圆的208A-M300型三层炉已成为我们今天的主要销售商。我们在水平扩散炉中使用的技术也已应用于太阳能电池制造中的扩散炉。这些型号目前被日本主要制造商使用,以满足日益增长的自然能源需求。

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直到1985年灯退火系统

我们的第一个灯具退火系统是独家采用日本技术开发和发布的。在1992年,我们发展了全自动RLA-311型。我们目前专注于SiC电源器件的灯退火系统。

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直到1985年垂直扩散炉

Koyo热系统公司开发的VF-2000立式氧化扩散炉成为行业的先驱。1989年,我们开发了VF-5000系列立式炉,开始批量生产。这些机型以清洁机器人为特色,已成为旗舰产品。为了支持更大的晶圆尺寸,我们还开发并发布了用于300mm晶圆的VF-5700和VF-5900型号。通过开发1800℃活化炉和1400℃氧氮化炉等设备,我们正在扩大SiC功率器件设备的销售。

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直到2001年清洁烤箱系统

这种为后端用户开发的用于300mm晶圆的清洁烤箱,在大量交付给OSAT公司和其他客户后,成为最畅销的产品。我们现在正在扩大销售改进的系统,用于下一代扇出晶圆级封装技术。

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