VF-5100转台式量产竖炉

这种大批量,扩散,LPCVD,立式炉执行4至8英寸晶圆超高温处理。
该系统可以灵活配置,使您的生产线可以加工多种产品。这台炉子擅长制造动力装置。

特征

  • 各种生产线设备配置灵活
  • 可选择50到150个晶圆的批量大小
  • 提供4至8英寸晶圆尺寸
  • 4到8盒
  • 使用LGO加热器从低到中高温范围内进行出色的温度控制
  • 利用单/五晶圆搬运机器人进行高速晶圆转移
  • 配备操作友好的高性能控制系统

概述

这种4到8英寸晶圆的立式加热炉可以灵活地满足您的生产线需要。您可以选择50到150个晶圆进行加工。您可以从LGO加热器、二硅化钼(MoSi2)加热器和碳加热器中选择加热器,因此该炉不仅可以用于低温退火,还可以用于氮化物(Si3N4)、多晶硅(poly Si)和其他材料的LPCVD,氧化扩散处理还可用于SiC功率器件栅硅氧氮共渗、活化退火等超高温处理。

规格

外形尺寸 W900×D1850×H2930毫米(100片晶圆)
W1000×D1950×H3300毫米(150片晶圆)
加热器 LGO加热器
平区长度 360至960毫米
晶圆尺寸 4至8英寸
批量大小 最多150片晶圆
I/O端口 1.
磁带库存数量 4至8
手指 5片+单片
主机通信 HSMS/GEM(可选)
选项 强制冷却系统
N2.负载锁定
薄片处理
可转换晶圆尺寸

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