优化设计

我们提供最优的热处理设备,以满足客户的需求。

“我希望能够进行实验性开发,并进行小批量生产。我想让向大规模生产的过渡更容易。”
“尽管我们可以安装机器的区域有限,但我们希望安装一台符合我们期望规格的机器。”
“由于新的处理要求均匀的薄膜沉积分布,我们希望能够精确控制温度和气氛。”
“我担心它的安全性,因为它将在特定的气体环境中使用。”

这些是我们客户的一些要求和顾虑。我们用我们积累的设计知识回答这些类型的客户询问,并根据我们广泛的生产记录提出热处理的最佳设备。
请随时与我们联系。

定制的例子

竖炉的例子

  • 支持改变气箱布局
  • 支持在大气压力下使用液体源进行处理
  • 支持硒化(Se) /硫化(S)处理
  • 大口径炉(G4或更大尺寸)的真空支架
  • 碳纳米管生长设备
  • 支持80μm及以上薄晶片
  • 扇出wafer-enabled设备
  • 基材支持大型,FPD聚酰亚胺固化板
  • 支持湿式真空处理
  • 支持干真空(氧分压控制)处理
  • 支持使用ClF进行现场清洗3.
  • 支持加工石英盒的散装运输
    【摘要】将带晶片的石英盒按原形转移、堆叠,并在此状态下进行热处理。
  • 支持平面多晶硅(无温度倾斜)

*支持不同的模型。

灵活的设备布局

它可以移动煤气箱等附加到炉子的背面或地板下,而不仅仅是在前面或在后面。我们可以绕过设备区域的限制,提高设备的可维护性。

滑稽正面煤气箱一楼

卧式炉的例子

  • 快速冷却机构与自动移动加热器
  • 带有自动开/关式加热器的强制冷却机构
  • 具有自动输送石英安瓿的喷水冷却机构
  • 支持POCl3.和BBr3.使用悬臂装载机扩散
  • 高速悬臂装载机(支持供体杀手治疗)

灯退火炉实例

  • 更换电纳上工件的机构
  • 同时处理多个晶圆
  • 支持从氧化到氧化氮的连续处理

烤箱的例子

  • 支持φ8”和φ300mm晶圆片

请按此查询。